研究用真空燒結爐用石墨，鉬屏或鎢屏作發熱體的高溫真空電阻爐，額定溫度爲1000~2400℃。可供金屬、難熔化合物及陶瓷材料等在真空或保護氣氛中加熱之用。

高溫實驗爐是用石墨或金屬鎢、鉬作發熱元件的真空電阻爐，溫度範圍30-2300℃，供金屬化合物、陶瓷、無機化合物等在真空或保護氣氛中燒結制品，也可用於金屬材料的熱處理。主要應用於電容、鉭材等金屬及由難熔金屬組成的合金材料、陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高溫燒結、也可以供金屬材料在高真空條件下的高溫熱處理或貴金屬材料的除氣處理。

高溫燒結爐是用石墨或金屬鎢、鉬作發熱元件的真空電阻爐，溫度範圍30-2300℃，供金屬化合物、陶瓷、無機化合物等在真空或保護氣氛中燒結制品，也可用於金屬材料的熱處理。主要應用於電容、鉭材等金屬及由難熔金屬組成的合金材料、陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高溫燒結、也可以供金屬材料在高真空條件下的高溫熱處理或貴金屬材料的除氣處理。

研究用真空燒結爐用石墨，鉬屏或鎢屏作發熱體的高溫真空電阻爐，額定溫度爲1000~2400℃。可供金屬、難熔化合物及陶瓷材料等在真空或保護氣氛中加熱之用。